Pasquet Sylvain auteur aut IRD Camerlynck C. auteur aut IRD Hovhannissian Gaghik auteur aut IRD text journalArticle fre text/pdf reformatted digital access Les résultats de la cartographie de résistivité électrique réalisée dans une plantation expérimentale d'arbres hévéa dans le Nord-Est de la Thaïlande ont montré des anomalies résistantes correspondant aux lignes d'arbres, élevées par rapport aux zones des "interlignes". Une comparaison des résultats de la cartographie détaillée avec ceux de la modélisation numérique nous permet d'évaluer l'effet topographique sur les valeurs de résistivité électrique. L'analyse de ces résultats montre que l'effet topographique ne peut pas être la seule source des anomalies résistantes étendues observées pendant la cartographie de résistivité électrique du site de Ban Non Tun, et indique l'existence d'une couche très résistante à la surface. specialized PHYSIQUE DU SOL GEOPHYSIQUE RESISTIVITE AMENAGEMENT DU SOL PLANTATIONS CAOUTCHOUC TOPOGRAPHIE MODELISATION CARTOGRAPHIE AUTOMATIQUE RESISTIVITE ELECTRIQUE THAILANDE 068PROSOL 066GPHGEN 57 65-69 2011 0997-1076 Colloque GEOFCAN, 8., Orléans (FRA), 2011/11/29-2011/12/01 https://www.documentation.ird.fr/hor/fdi:010058035 0997-1076 [F B010058035] https://www.documentation.ird.fr/hor/fdi:010058035 https://horizon.documentation.ird.fr/exl-doc/pleins_textes/divers13-06/010058035.pdf IRD - Base Horizon / Pleins textes 2013-02-06 2015-03-13 fdi:010058035 fre