Etude de l'effet topographique sur les mesures de résistivité électrique dans une plantation expérimentale d'hévéas au nord-est de la Thaïlande /Pasquet, Sylvain Camerlynck, C. /Hovhannissian, Gaghik PHYSIQUE DU SOL GEOPHYSIQUE RESISTIVITE AMENAGEMENT DU SOL PLANTATIONS CAOUTCHOUC TOPOGRAPHIE MODELISATION CARTOGRAPHIE AUTOMATIQUE RESISTIVITE ELECTRIQUE Les résultats de la cartographie de résistivité électrique réalisée dans une plantation expérimentale d'arbres hévéa dans le Nord-Est de la Thaïlande ont montré des anomalies résistantes correspondant aux lignes d'arbres, élevées par rapport aux zones des "interlignes". Une comparaison des résultats de la cartographie détaillée avec ceux de la modélisation numérique nous permet d'évaluer l'effet topographique sur les valeurs de résistivité électrique. L'analyse de ces résultats montre que l'effet topographique ne peut pas être la seule source des anomalies résistantes étendues observées pendant la cartographie de résistivité électrique du site de Ban Non Tun, et indique l'existence d'une couche très résistante à la surface. 2011 text https://www.documentation.ird.fr/hor/fdi:010058035 fdi:010058035 Pasquet Sylvain, Camerlynck C., Hovhannissian Gaghik. Etude de l'effet topographique sur les mesures de résistivité électrique dans une plantation expérimentale d'hévéas au nord-est de la Thaïlande. 2011, 65-69 Colloque GEOFCAN, 8., Orléans (FRA), 2011/11/29-2011/12/01 FR THAILANDE